TECH COLUMN 技術コラム

3. 半導体デバイスの基本構造と動作原理
3-11. パワーデバイスの構造と特徴

材料・加工技術

公開日:

【1】はじめに

パワーデバイス(Power Device)は、
大電流・高電圧を扱い、電力を効率よく制御するための半導体デバイス です。

 

CPUやメモリが「情報処理」を行うのに対し、
パワーデバイスは「電気の流れを制御し、動力やエネルギーを扱う」役割を持つため、
産業機器・家電・電気自動車(EV)・再生可能エネルギーなどで非常に重要です。

【2】パワーデバイスの特徴

パワーデバイスは通常のMOSFETやBJTと異なり、
以下のような特性が必要です。

  • 高耐圧(数百〜数千V)
  • 大電流対応
  • 低オン抵抗(Rds(on) の低減)
  • 高速スイッチング
  • 高温動作(150℃〜200℃級)
  • 高信頼性・長寿命

そのため、材料・構造が一般的なロジックデバイスとは大きく異なります。

【3】主要なパワーデバイスの種類

3-1. パワーMOSFET

【特徴】

  • 低〜中電圧向け(30〜900V)
  • 高速スイッチング
  • ロスが小さく、高効率
  • DC-DCコンバータ、モータ制御に使用

【構造】

  • トレンチMOS(垂直ゲート構造)が主流
  • ドレイン〜ソース方向に電流が垂直に流れる「縦型構造」

 

3-2. IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)

【特徴】

  • 中〜高電圧の大電流に適した素子(600V〜数kV)
  • MOSFETとBJTのハイブリッド
  • ゲートはMOS構造 → 駆動が容易
  • 電流はバイポーラ → 大電流向け

【用途】
インバータ、鉄道、エレベーター、EVの駆動システム

【弱点】

  • MOSFETよりスイッチングが遅い
  • ターンオフ時のテール電流が課題

 

3-3. ダイオード(パワー用途)

  • ショットキーバリアダイオード(SBD)
  • ファストリカバリーダイオード(FRD)

用途:整流、電源回路、インバータ

【4】Si(シリコン)デバイスの限界と問題

従来のSiパワーデバイスは成熟した技術ですが、
以下の課題が顕著になり始めました。

  • 耐圧の限界
  • スイッチング損失の増加
  • 大電力化への対応が困難
  • 高温動作が苦手

この限界を突破するために生まれたのが、ワイドバンドギャップ(WBG)材料 です。

【5】WBG材料(SiC・GaN)による革命

5-1. SiC(シリコンカーバイド)

【特徴】

  • 高耐圧(1200V〜)に強い
  • 高温(200℃級)で動作
  • 高速スイッチング
  • 低損失

【用途】

  • EVインバータ
  • 産業用電源
  • 太陽光パワコン
  • 充電器(急速充電)

SiCは「高電力・高耐圧」の王者です。

 

5-2. GaN(ガリウムナイトライド)

【特徴】

  • 超高速スイッチング
  • 低オン抵抗
  • 高周波動作に最適
  • 小型軽量化可能

【用途】

  • USB急速充電器
  • データセンター電源
  • 通信(RF)
  • 低〜中耐圧(〜650V)の高速スイッチング用途

GaNは「高速・高効率」のエースです。

【6】パワーデバイスの一般構造(縦型 vs 横型)

縦型(Vertical)構造

  • 電流が上から下へ垂直方向に流れる
  • 高耐圧・高電流に強い
  • パワーMOSFET、IGBT、SiC MOSFETで採用
  • 大型基板が必要だが、性能は非常に高い

 

横型(Lateral)構造

  • 電流が平面方向に流れる
  • 高速スイッチング・RF用途に強い
  • GaN HEMTに多い
  • 基板との統合が容易で小型化しやすい

【7】HEMT(高電子移動度トランジスタ)

GaNデバイスで広く使われる構造。

【特徴】

  • ヘテロ構造により電子の“2次元ガス”が形成
  • これにより超高速スイッチング
  • 低抵抗・低損失
  • RF通信(5G)、高効率電源で活躍

【8】今後の進化方向

■ SiC の展望

  • 8インチウェハ量産(コスト低減)
  • SiC MOSFETのオン抵抗低下
  • 3D構造SiCの研究加速

■ GaN の展望

  • パワーIC統合(GaN+ドライバ回路)
  • 900V級 GaN の実用化
  • 3D GaN(Vertical GaN)の台頭

■ 新材料

  • Ga₂O₃(酸化ガリウム) → 超高耐圧
  • ダイヤモンド半導体 → 未来の最強素材候補

【9】まとめ

・パワーデバイスは大電流・高電圧を扱う力の半導体。
・MOSFET、IGBT、パワーダイオードが主要素子。
・Siの限界を越えるため、SiCとGaNが急速に普及。
・用途により「SiC=高耐圧」、「GaN=高速・低電圧」で住み分けが進む。
・自動車・産業・エネルギー分野で今後も市場拡大が確実。

【理解チェック】

1.SiCとGaNはどんな分野で使い分けられる?

2.IGBTの特徴は?

3.パワーMOSFETの主流構造は?

 

 

 

 

コラム監修:角本 康司 (オーティス株式会社)
語学留学や商社での企画開発を経て2011年にオーティス株式会社入社。経営企画部を中心に製造・技術部門も兼任し、2018年より代表取締役として事業成長と組織強化に努めている。

 

※本記事は教育・啓発を目的とした一般的な技術解説であり、特定企業・製品・技術を示すものではありません。

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