フィルム加工、テープ加工のオーティス株式会社が関わる市場動向や技術に関する情報を発信しています。

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2026.01.05

5-4. EUVリソグラフィの高度化（High NA EUV）

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• 最先端プロセス技術
• リソグラフィ・微細化
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• EUV露光

2025.12.25

5章：最先端プロセス技術 | 5-1. 先端ノード（3nm / 2nm / 1.4nm）の全体像

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• 半導体微細化
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2025.12.24

4-15. EUV・真空・プラズマなど装置技術（Advanced Equipment Technologies）

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• 半導体製造装置

2025.12.10

4-5. リソグラフィ（Lithography）

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